半导体光刻用光源制作商Gigaphoton Inc.（总部：枥木县小山市；总裁兼首席执行官：Tatsuo Enami）宣告，“G300K”微孔加工光源已交交给日本一家专门从事后端设备制作的设备制作商，该集成体系已成功安装在美国一家公司的工厂内。
半导体光刻用光源制作商Gigaphoton Inc.（总部：枥木县小山市；总裁兼首席执行官：Tatsuo Enami）宣告，“G300K”微孔加工光源已交交给日本一家专门从事后端设备制作的设备制作商，该集成体系已成功安装在美国一家公司的工厂内。
Gigaphoton将其在半导体光刻光源方面的专业相关常识用于开发先进封装工艺的超精密刻蚀处理光源。
G300K是一种根据KrF（248nm）波长的准分子激光器，可集成到半导体封装基板的加工设备中。该激光器让长寿命模块取得高功率、高重复率、高可靠性的优势，并大多数都用在加工直径超越10μm的微孔以及沟槽图画。该激光器有望用于凭借芯片组制作2.5D/3D封装，估计大多数都用在人工智能芯片组的芯片将有所增加。
Gigaphoton总裁兼首席执行官Tatsuo Enami表明：“在Gigaphoton，咱们在研制半导体光刻光源的一起，也一向在探究准分子激光在其他范畴使用的各种可能性。
作为半导体制作业的重要光源制作商，咱们将持续经过不断研制新工艺来促进准分子激光器的进一步使用，从而为该职业做出奉献。”
自2000年建立以来，GIGAPHOTON一向作为光源制作商为全球半导体制作商供给名贵的解决方案。 从研制到制作、出售和保护服务的每一个阶段，GIGAPHOTON致力于从日常用户的视点供给国际一流的支撑。 有关更多信息，请拜访